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GIGABATCH 310M PVA TEPLA AG
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Système compact de table et de prix attractif pour des applications semi-conducteur dans les universités et des laboratoires de R&D. Approprié aux wafers de 2" à 6". Etudié pour recevoir divers magasins horizontaux pour stockage des wafers, de petits échantillons ainsi que des magasins en quartz pour traitement de wafers.
Option pour nettoyage de surface SU-8

Chambre Plasma : Quartz. Diamètre 245mm, Profondeur 395mm
Génération Plasma : 2,45GHz, Max 600 Watts
Puissance variable

Options : Nettoyage SU-8 incorporant refroidisseur du wafer, contrôle de la température, End Point Detection.
Entrées gaz supplémentaires.

Applications :
Photoresist Ashing
SU-8 ashing
Substrat cleaning

À PROPOS DE PVA TEPLA AG :
Fondée en 1991, PVA TePla AG a rejoint le groupe PVA TEPLA en 2002.
PVA TePla AG conçoit et fabrique des systèmes plasma.

Un plasma est un gaz ionisé composé d'électrons, de particules ioniques chargées positivement ou négativement, d'atomes neutres et de molécules. L'ensemble est électriquement neutre.
Le plasma est considéré comme le quatrième état de la matière après l’état solide, liquide ou gazeux.
Les plasmas sont très présents à l'état naturel (étoiles, couronne solaire, espace interstellaire, aurore boréale, éclair, etc.), notre univers en est composé à 99%.
Dans l'industrie, les traitements plasma sont utilisés pour l'amélioration et le contrôle fin des propriétés de surface des matériaux (métaux, plastiques et élastomères, verres, céramiques, composites, textiles, etc.) pour le revêtement, le nettoyage, l’activation ou encore la gravure. Sa simplicité, sa facilité de mise en œuvre, ses caractéristiques économiques et écologiques font de la technologie plasma une technologie très attractive. Les domaines d’applications sont donc très variés et concernent de nombreux secteurs d’activité comme les nanotechnologies, l’aéronautique, l’automobile, la microélectronique ou encore le médical.

MB Electronique dispose, dans ses locaux, d’un laboratoire équipé d’un système plasma basse pression (Ion 40) et d’un système plasma atmosphérique (Plasma Pen).
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