| | | | Système plasma - 245 mm de diamètre - GIGAbatch 360M PVA TePla.
Les systèmes plasma GIGAbatch 360M et 380M sont des systèmes compacts sur pieds conçus pour une production grand volume avec faible densité en particule CoO, visant la fabrication de MEMS et de HB-LED.
La version 360 a une chambre de traitement d'un diamètre de 245 mm et peut contenir jusqu'à 50 wafers d'un diamètre de 150 mm. Dans le système 380, la chambre a un diamètre intérieur de 300 mm et peut donc accueillir 25 wafers d'un diamètre de 200 mm.
Ils sont équipés d'un générateur d'une puissance de 1000 W, de deux conduits de gaz MFC, d'un système de contrôle de la température des wafers et d'un système de détection des points d'arrêt. De plus, un dispositif de main... |
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