| | | | Le processus d'implant est une étape très critique sur les lignes de production de circuits intégrés. Il définit les caractéristiques et les propriétés du composant à produire en dopant certaines couches du substrat. Il est très difficile voire impossible de rependre ce processus. Par conséquent, la surveillance constante de la qualité du processus d'implant est inévitable afin de maintenir le rendement acceptable. Le système TWIN permet de surveiller et mesurer ce processus de dosage "ion-implant" par couverture des gammes de mesure allant de 10E10 à 5E16 du niveau de dosage et de 1keV à 100MeV de l'énergie d'implant.
À PROPOS DE PVA TEPLA AG :
Fondée en 1991, PVA TePla AG a rejoint le groupe PVA TEPLA en 2002.
PVA TePla AG conçoit et fabrique des systèmes plasma.
Un plasma est un gaz ionisé composé d'électrons, de particules ioniques chargées positivement ou négativement, d'atomes neutres et de molécules. L'ensemble est électriquement neutre.
Le plasma est considéré comme le quatrième état de la matière après l’état solide, liquide ou gazeux.
Les plasmas sont très présents à l'état naturel (étoiles, couronne solaire, espace interstellaire, aurore boréale, éclair, etc.), notre univers en est composé à 99%.
Dans l'industrie, les traitements plasma sont utilisés pour l'amélioration et le contrôle fin des propriétés de surface des matériaux (métaux, plastiques et élastomères, verres, céramiques, composites, textiles, etc.) pour le revêtement, le nettoyage, l’activation ou encore la gravure. Sa simplicité, sa facilité de mise en œuvre, ses caractéristiques économiques et écologiques font de la technologie plasma une technologie très attractive. Les domaines d’applications sont donc très variés et concernent de nombreux secteurs d’activité comme les nanotechnologies, l’aéronautique, l’automobile, la microélectronique ou encore le médical.
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