Système compact de table et de prix attractif pour des applications semi-conducteur dans les universités et des laboratoires de R&D. Approprié aux wafers de 2" à 6". Etudié pour recevoir divers magasins horizontaux pour stockage des wafers, de petits échantillons ainsi que des magasins en quartz pour traitement de wafers. Option pour nettoyage de surface SU-8
Chambre Plasma : Quartz. Diamètre 245mm, Profondeur 395mm Génération Plasma : 2,45GHz, Max 600 Watts Puissance variable
Options : Nettoyage SU-8 incorporant refroidisseur du wafer, contrôle de la température, End Point Detection. Entrées gaz supplémentaires.
Applications : Photoresist Ashing SU-8 ashing Substrat cleaning
À PROPOS DE PVA TEPLA AG : Fondée en 1991, ... |
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