Système de nettoyage plasma automatique pour wafer de 200 ou 300 millimètres s'intégrant dans des chaînes de fabrication de semi conducteur et de MEMS.
La technologie unique de la source de plasma hyper assure une meilleure uniformité et un nettoyage performant dans une gamme de température étendue. Système approprié aux gaz fluorés.
Plate-forme modulaire configurable avec de diverses stations de charge et décharge ains que version avec "chuck" . Facile d'utilisation et maintenance.

À PROPOS DE PVA TEPLA AG :
Fondée en 1991, PVA TePla AG a rejoint le groupe PVA TEPLA en 2002.
PVA TePla AG conçoit et fabrique des systèmes plasma.

Un plasma est un gaz ionisé composé d'électrons, de particules ioniques chargées positivement ou néga...