ION WAVE 10 — Système plasma µwave

L’ION Wave 10, dernier né de la famille des chambres plasma de PVATEPLA USA, est un système plasma alliant une taille moyenne aux dernières avancées de la technologie plasma micro-ondes ciblant les besoins des laboratoires de développement, les petites productions de wafer, les universités ainsi que les petites et moyennes entreprises.

L’ION Wave10 est équipé des dernières technologies matérielles et logicielles lui permettant de contrôler précisément les paramètres de traitement plasma. Son logiciel de surveillance de processus et de capture de données lui assure un suivi et un contrôle de qualité. Cette technologie a été utilisée avec succès pour les traitements de composants de puissance, les composants analogiques, les capteurs, les systèmes optique, la photonique, les MEMS / MOEMS, etc.

Son faible encombrement implique un espace de laboratoire minime, allié à une installation simple et un entretien facile. Grâce à la technologie micro-ondes, ce système évite une exposition trop longue aux décharges électrostatiques (ESD) lors du retrait de photoresist.

CARACTÉRISTIQUES :

• Chambre quartz pouvant accueillir des wafers jusqu’à 8’’.
• Ordinateur avec système Windows.
• Surveillance de processus via Ethernet.
• Éditeur de recette.
• Ecran tactile LCD 26 cm.
• Installation Plug and Play.

APPLICATIONS TYPIQUES :

• Retrait de photoresist (classique et SU-8).
• Passivation.
• Décapsulation pour analyse de défaillance.
• Nettoyage et activation surface.
• Nettoyage des filtres.