ILHC — Système plasma RF en ligne de production

L’ILHC (In Line High Capacity) est un système de traitement plasma à vide haut débit pouvant s’insérer dans un flux de production.. Il permet de réaliser des processus tels que le dépôt chimique en phase vapeur (PECVD), la gravure, le nettoyage et l’activation.

La technologie plasma est le meilleur choix sur le marché pour réaliser des traitements de modification superficielle de matériaux dans des domaines tels que sciences de la vie, l’électronique, les semi-conducteurs et bien d’autres segments de l’industrie. Ce design nouveau et unique sur le marché propulse la technologie plasma vers un nouveau seuil de performance et de capacité dans les environnements de production en ligne.

L’ILHC a été conçu pour satisfaire aux exigences de flux de production de nos clients. Il assure des temps de traitement rapides, une excellente uniformité et un contrôle de dépôt très précis dans le cas de PECVD. Une technologie de pointe alliée à un design innovant offrira aux utilisateurs des process de contrôle performants, des sécurités avec alarmes, de la collecte de données et des rapports détaillés.

Ce système de traitement plasma RF est associé à un système de convoyage des échantillons, le tout intégré dans un ensemble compact. Pour s’intégrer dans un flux de production il allie une installation simple à une maintenance et un diagnostic rapide et efficace.